[发明专利]粒子射线照射装置

权利要求书

1.一种粒子射线照射装置，

利用扫描电磁铁将由加速器进行了加速的带电粒子束进行扫描并照射至照射对象，其特征在于，

包括逆映射单元，该逆映射单元具有逆映射模型，该逆映射模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标，来生成实现该照射的所述扫描电磁铁的指令值及带电粒子束的动能的指令值，

根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用所述逆映射数学模型而生成的所述指令值，来对所述扫描电磁铁及带电粒子束的动能进行控制，以将带电粒子束进行扫描，来照射至照射对象。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射模型是逆映射数学模型。

3.如权利要求2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射数学模型是多项式，且是三个输入三个输出。

4.如权利要求2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射数学模型是由所述目标照射位置坐标构成的多项式。

5.如权利要求2至4的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射数学模型是多项式，所述多项式中存在的未知系数能够通过以下方法求出：即，

向所述扫描电磁铁输入预先设定的多组指令值，并向所述加速器输入预先设定的动能的多个指令值，

对带电粒子束进行控制，

基于实际照射的各照射位置坐标的实际数据来应用最小二乘法或加权最小二乘法。

6.如权利要求2至4的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射数学模型具有多个，能够选择所述多个逆映射数学模型。

7.如权利要求1至4的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

使所述偏转电磁铁具有所述扫描电磁铁的功能。