[发明专利]用于大面积等离子体加工的装置有效

专利信息
申请号: 200980156455.X 申请日: 2009-02-10
公开(公告)号: CN102318034A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: P·吉特蒂埃尼 申请(专利权)人: 赫利森有限责任公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 金晓
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 根据本发明,一种用于大面积等离子体加工的装置包括至少一根平面天线(A),具有多个互连的基本共振网孔(M1、M2、M3),每一个网孔(M1、M2、M3)都包括至少两个导电引脚(1、2)和至少两个电容(5、6)。射频发生器将所述天线(A)激发为其共振频率中的至少一种。加工室靠近所述天线(A)。所述天线(A)生成的电磁场场型具有非常良好地限定的空间结构,这就允许很好地控制等离子体的激发。
搜索关键词: 用于 大面积 等离子体 加工 装置
【主权项】:
一种用于等离子体加工的装置(50),包括:a.至少一根平面天线(A),b.激发所述天线(A)的至少一个射频发生器(20),c.气体喷射系统(55)和扩散器,d.靠近所述天线(A)的加工室(51),e.其中所述平面天线(A)包括多个互连的基本共振网孔(M1、M2、M3),每一个网孔(M1、M2、M3)都包括至少两个导电引脚(1、2)和至少两个电容(5、6),以使所述天线(A)具有多个共振频率,以及f.其中所述射频发生器(20)将所述天线(A)激发至其共振频率中的至少一个。
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