[发明专利]太阳能电池和用于由硅基底制造太阳能电池的方法无效
申请号: | 200980154540.2 | 申请日: | 2009-12-03 |
公开(公告)号: | CN102282683A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | D·比罗;O·舒尔茨-维特曼;A·莱姆克;J·兰特施;F·克莱芒;M·霍夫曼;A·沃尔夫;L·戈特罗;S·梅克;R·普罗伊 | 申请(专利权)人: | 弗朗霍夫应用科学研究促进协会 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0224 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 吴鹏;马江立 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于由硅基底(1)、尤其是硅晶片制造具有正面和背面的太阳能电池的方法,该方法包括如下步骤:A.使所述硅基底(1)的一个面具有纹路以改进太阳能电池受到电磁辐射时的吸收性和/或去除所述硅基底(1)的一个面上的锯切损伤,B.通过扩散入一掺杂材料在所述硅基底(1)的一个面上产生一发射极区域(2),用以形成一pn结,C.去除玻璃层,其中所述玻璃层包含所述掺杂材料,D.施加掩蔽层(3),其中所述掩蔽层(3)是介电层,E.去除所述硅基底(1)材料的一部分,F.施加金属化结构(5、6),以用于太阳能电池的电接触。重要的是:在方法步骤E和F之间实施热氧化,以形成氧化层(4),掩蔽层(3)和氧化层(4)在随后的工艺步骤中保留在硅基底(1)上。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 用于 基底 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于由硅基底(1)、尤其是硅晶片制造具有正面和背面的太阳能电池的方法,包括如下方法步骤:i.使所述硅基底(1)的至少一个面具有纹路以改进所述太阳能电池受到电磁辐射时的吸收性和/或去除所述硅基底(1)的至少一个面上的锯切损伤,ii.通过扩散入至少一种掺杂材料至少在所述硅基底(1)的至少一个面的部分区域上产生至少一个发射极区域(2),用以形成至少一个pn结,iii.去除所述硅基底(1)的至少一个面上的玻璃层,其中所述玻璃层包含掺杂材料,iv.至少在所述硅基底(1)的至少一个面的部分区域上施加掩蔽层(3),其中所述掩蔽层(3)是介电层,v.从所述硅基底(1)的至少一个面上剥蚀所述硅基底(1)的材料的至少一部分和/或对所述硅基底(1)的至少一个面进行整理,vi.在所述硅基底(1)的正面(1a)和/或背面(1b)上施加金属化结构(5、6),以用于所述太阳能电池的电接触,其特征在于,在所述方法步骤E和F之间在方法步骤E2中实施热氧化,以至少在所述硅基底(1)的所述正面和/或背面的部分区域中形成氧化层(4),所述氧化层不被在步骤D中施加的所述掩蔽层(3)覆盖;所述掩蔽层(3)和所述氧化层(4)基本上在随后的工艺步骤中保留在所述硅基底(1)上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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