[发明专利]深沟槽背接触光伏太阳能电池有效
申请号: | 200980149558.3 | 申请日: | 2009-11-12 |
公开(公告)号: | CN102246324A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 胡马云·阿克特·穆戈尔 | 申请(专利权)人: | 矽利康有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人: | 万学堂;曾海艳 |
地址: | 英国埃*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 本发明提供了一种聚光光伏太阳能电池和一种用半导体晶圆制备该电池的方法。所述方法的步骤包括:首先在所述晶圆背面进行掺杂以提供第一掺杂区域。在正面和背面淀积钝化层。穿过钝化层在背面形成深的沟槽,并掺杂所述背面以便在所述深沟槽内提供反向掺杂的第二掺杂区域。然后形成穿过背面钝化层直至第一掺杂区的开口;并在背面形成电连接第一和第二掺杂区的电触点。所述光伏聚光电池包括正面和背面均沉积有钝化层的半导体晶圆;和在背面的第一掺杂区域;其还包括在从背面以连接所述第一掺杂区的开口中形成的p型接触,从背面延伸到晶圆内部的深沟槽中的n型电接触,和在形成所述深沟槽后但在形成n型电接触之前在深沟槽中掺杂的第二掺杂区域。 | ||
搜索关键词: | 深沟 接触 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种用半导体晶圆制作光伏聚光太阳能电池的方法,所述晶圆包括正面和背面,所述方法包括以下步骤:(a)掺杂所述晶圆的背面以提供在所述晶圆背面的第一掺杂区域;(b)在所述背面和所述正面沉积钝化层;(c)在所述背面形成穿过所述钝化层的深沟槽;(d)掺杂所述背面以提供在所述深沟槽内的第二掺杂区域,所述第二掺杂区域的掺杂与所述第一掺杂区域的掺杂相反;(e)形成穿过所述背面钝化层并到达所述第一掺杂区域的开口;和(f)在所述背面形成电触点以电连接所述第一掺杂区域和第二掺杂区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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