[发明专利]光学膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980144385.6 申请日: 2009-11-27
公开(公告)号: CN102209749A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 平间进;宇贺村忠庆;大西隆司;丹羽宏和;大石英树 申请(专利权)人: 株式会社日本触媒
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L33/04;C08L35/00;C08F8/16
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;张志楠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光学膜及其制造方法,所述光学膜以主链具有环结构的丙烯酸类树脂作为主成分,兼具作为光学膜的充分的透明性和抗粘连性。所述光学膜含有在主链具有环结构的非晶态丙烯酸类树脂(A)作为主成分和颗粒(B),其是通过熔融挤出形成的,满足下述的条件(i)~(iii):(i)基于JIS K7361测定的全光线透过率为90%以上、雾度为1%以下;(ii)基于JIS B0601测定的、表面的十点平均粗糙度Rz为1.0μm以上;(iii)基于JIS P8115测定的耐弯折次数(MIT次数)为100次以上。
搜索关键词: 光学 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学膜,其含有在主链具有环结构的非晶态丙烯酸类树脂(A)作为主成分和颗粒(B),该光学膜是通过熔融挤出形成的,并且该光学膜满足下述的条件(i)~(iii),(i)基于JIS K7361测定的全光线透过率为90%以上、雾度为1%以下,(ii)基于JIS B0601测定的、表面的十点平均粗糙度Rz为1.0μm以上,(iii)基于JIS P8115测定的耐弯折次数、即MIT次数为100次以上。
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