[发明专利]标记涂覆的眼科基材的方法和设备有效
| 申请号： | 200980142844.7 | 申请日： | 2009-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102197004A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | W·伊格顿 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;G02B1/11;G02C7/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 标记眼科基材或其它眼科制品的方法，其包括如下步骤：提供眼科基材，其是具有相对光学表面的合适的有机或无机玻璃；沉积多个层以界定在相对的光学表面中一个或两个上的具有抗冲击、抗划痕、抗反射和/或抗模糊性能的涂层，所述层中至少一个是导电层；提供掩模，该掩模界定与涂覆的眼科基材的表面之一的所需标记互补的构型，并将该掩模紧邻所述眼科基材表面布置；和提供离子体源并从所述离子体源将离子束引导至所述眼科基材的经掩蔽表面以除去经过所述掩模曝光的涂层中的最外一个层的至少一部分，从而在所述基材表面涂层上产生通过雾化而变得可见的所需标记。 | ||
| 搜索关键词： | 标记 眼科 基材 方法 设备 | ||
【主权项】：
标记眼科基材或其它眼科制品的方法，其包括如下步骤：‑提供眼科基材，其是具有相对光学表面的合适的有机或无机玻璃；‑沉积多个层以界定在相对的光学表面中一个或两个上的具有抗冲击、抗划痕、抗反射和/或抗模糊性能的涂层，所述层中至少一个是导电层；‑提供掩模，该掩模界定与涂覆的眼科基材的表面之一的所需标记互补的构型，并将该掩模紧邻所述眼科基材表面布置；和‑提供离子体源并从所述离子体源将离子束引导至所述眼科基材的经掩蔽表面以除去经过所述掩模曝光的涂层中的最外一个层的至少一部分，从而在所述基材表面涂层上产生通过雾化而变得可见的所需标记。
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