[发明专利]具有优化的调节可能性的投射曝光设备有效
| 申请号： | 200980137566.6 | 申请日： | 2009-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN102165371A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 博里斯·比特纳;霍尔格·沃尔特;马赛厄斯·罗施 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于成像物场的、用于微光刻的投射设备，包括物镜、用于操纵所述物镜的至少一个或多个光学元件的至少一个或多个操纵器、用于控制所述至少一个或多个操纵器的控制单元、用于确定所述物镜的至少一个像差的确定装置、以及存储器，保存用于所述物镜的一个或多个规范的上限，包括用于所述至少一个像差的上限和/或用于所述至少一个或多个操纵器的移动的上限，其中，当确定所述上限之一被所述像差之一突破以及/或者所述上限之一被所述操纵器移动之一突破时，可以通过控制所述至少一个或多个操纵器，在至多30000ms、或10000ms、或5000ms、或1000ms、或200ms、或20ms、或5ms、或1ms内，可实现使所述上限不被突破。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 优化 调节 可能性 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻的投射设备，包括‑物镜，用于成像物场，‑至少一个或多个操纵器，用于操纵所述物镜的至少一个或多个光学元件，‑控制单元，用于控制所述至少一个或多个操纵器，其特征在于所述控制单元‑包含第一装置，用于通过求解逆问题来确定所述至少一个或多个操纵器的移动，‑尤其包含第二装置，用于所述逆问题的数值稳定化，‑所述数值稳定化具体是SVD稳定化和/或利用权重γ的Tikhonov稳定化，以及/或者cg稳定化和/或预处理，所述利用权重γ的Tikhonov稳定化尤其是L曲线方法。
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