[发明专利]用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,溅射靶材及其制备方法

摘要

本发明提供一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金，所述合金具有优异的饱和磁通密度、非结晶性和耐腐蚀性，并且提供一种整体上具有这种优异的合金组成但是具有高的PTF值的溅射靶材，该溅射靶材可以有效地用于磁控溅射。这种合金包含以原子％计的下列各项：Fe：10至45％；Ni：1至25％；Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种：Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10％，其中B为0至7％的量；以及Al和Cr中的一种或多种：Al+Cr之和为0至5％；以及作为余量的Co和不可避免的杂质：37％以上，并且所述合金以原子比计满足下列各项：Fe/(Co+Fe+Ni)：0.10至0.50；以及Ni/(Co+Fe+Ni)：0.01至0.25。

主权项

一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金，所述合金包含以原子％计的下列各项：Fe：10至45％；Ni：1至25％；Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种：Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10％，其中B为0至7％的量；以及Al和Cr中的一种或多种：Al+Cr之和为0至5％；以及作为余量的Co和不可避免的杂质：37％以上，并且所述合金以原子比计满足下列各项：Fe/(Co+Fe+Ni)：0.10至0.50；以及Ni/(Co+Fe+Ni)：0.01至0.25。