[发明专利]用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 200980135768.7 | 申请日： | 2009-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN102149836A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 泽田俊之;岸田敦;长谷川浩之;柳谷彰彦 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | C22C19/07 | 分类号： | C22C19/07;B22F1/00;B22F3/14;C22C1/04;C22C38/00;C23C14/34;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 程金山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 垂直 记录 介质 中的 软磁膜层 合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金，所述合金包含以原子％计的下列各项：
Fe：10至45％；
Ni：1至25％；
Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种：Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10％，其中B为0至7％的量；以及
Al和Cr中的一种或多种：Al+Cr之和为0至5％；以及
作为余量的Co和不可避免的杂质：37％以上，并且所述合金以原子比计满足下列各项：
Fe/(Co+Fe+Ni)：0.10至0.50；以及
Ni/(Co+Fe+Ni)：0.01至0.25。
2.一种制备用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的溅射靶材的方法，所述方法包括下列步骤：
(a)提供两种以上的具有不同组成的原料粉末，以在总组成上构成根据权利要求1所述的用于软磁膜的合金，其中所述两种以上的粉末中的至少一种粉末包含以原子％计的下列各项：
Ni：20至34％；
Co：0至6％；
Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种：Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为3至12％，其中B为0至7％的量；以及
Al和Cr中的一种或多种：Al+Cr之和为0至5％；以及
作为余量的Fe和不可避免的杂质，并且以原子比计满足下列各项：
Ni/(Fe+Ni)：0.27至0.35；
(b)将所述两种以上的粉末混合以提供混合物；以及
(c)使所述混合物固结以形成溅射靶材。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述固结步骤通过镦粗方法进行。
4.一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的溅射靶材，所述溅射靶材通过根据权利要求2所述的方法制备。
5.一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的溅射靶材，所述溅射靶材通过根据权利要求3所述的方法制备。
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