[发明专利]用于微机械部件的制造方法和微机械部件有效
申请号: | 200980131329.9 | 申请日: | 2009-07-06 |
公开(公告)号: | CN102119118A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | S·芬克拜纳;T·皮尔克;C·弗里泽 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于微机械部件(100)的制造方法,包括以下步骤:在基本衬底上形成第一蚀刻停止层,第一蚀刻停止层被这样地构造,使得它具有穿透的留空的第一图案;在第一蚀刻停止层上形成第一电极材料层;在第一电极材料层上形成第二蚀刻停止层,第二蚀刻停止层被这样地构造,使得它具有穿透的留空的与第一图案不同的第二图案;在第二蚀刻停止层上形成第二电极材料层;在第二电极材料层上形成结构化的掩膜;和在第一方向上执行第一蚀刻步骤并且在与第一方向相反指向的第二方向上执行第二蚀刻步骤,以便由第一电极材料层蚀刻出至少一个第一电极单元及由第二电极材料层蚀刻出至少一个第二电极单元。本发明还涉及微机械部件(100)。 | ||
搜索关键词: | 用于 微机 部件 制造 方法 | ||
【主权项】:
用于微机械部件(100,120,140)的制造方法,包括以下步骤:在基本衬底(10)上形成第一蚀刻停止层(12),其中,所述第一蚀刻停止层(12)被这样地构造,使得所述第一蚀刻停止层具有穿透的留空(14)的第一图案;在所述第一蚀刻停止层(12)上形成第一电极材料层(16);在所述第一电极材料层(16)上形成第二蚀刻停止层(18),其中,所述第二蚀刻停止层(18)被这样地构造,使得所述第二蚀刻停止层具有穿透的留空(20)的与第一图案不同的第二图案;在所述第二蚀刻停止层(18)上形成第二电极材料层(22);在所述第二电极材料层(22)上形成结构化的掩膜(30);和在第一方向(28,32)上执行第一蚀刻步骤及在与所述第一方向(28,32)相反指向的第二方向(28,32)上执行第二蚀刻步骤,以便由所述第一电极材料层(16)蚀刻出至少一个第一电极单元(44)及由所述第二电极材料层(22)蚀刻出至少一个第二电极单元(42)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980131329.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。