[发明专利]可再分散的经表面改性的二氧化硅颗粒的制备方法

摘要

本发明公开了制备经表面改性的二氧化硅颗粒的方法，所述二氧化硅颗粒的平均粒径最大为100nm，所述方法包括以下步骤：a)提供预分散体，b)高压研磨所述预分散体以形成分散体，c)去除所述分散体的液相，所述预分散体包含a1)经表面改性的二氧化硅颗粒，其是至少部分聚集的，其通过Si-O-Si键与表面改性组分结合，并且在其表面上仍具有反应性基团，a2)一种或多种有机硅化合物，其具有至少一个Si-C键，和至少一个可与所述反应性基团反应而形成共价Si-O-Si键的官能团，和a3)一种或多种溶剂。本发明还公开了可通过该方法得到的可再分散的经表面改性的二氧化硅颗粒。本发明公开了这些颗粒在调色剂粉末、硅橡胶、粘合剂和耐刮擦表面涂层中的用途。

主权项

制备经表面改性的二氧化硅颗粒的方法，所述二氧化硅颗粒的平均粒径最大为100nm，所述方法包括以下步骤：a)提供预分散体，b)高压研磨所述预分散体以形成分散体，c)去除所述分散体的液相，所述预分散体包含：a1)经表面改性的二氧化硅颗粒，‑其是至少部分聚集的，‑其通过Si‑O‑Si键与表面改性组分结合，并且‑在其表面上仍具有反应性基团，a2)一种或多种有机硅化合物，‑其具有至少一个Si‑C键，并且‑其具有至少一个可与所述反应性基团反应而形成共价Si‑O‑Si键的官能团，和a3)一种或多种溶剂。