[发明专利]一种制备包含第一相和第二相的氧化物溅射靶的方法无效
| 申请号： | 200980126264.9 | 申请日： | 2009-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN102089455A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | H·德尔吕;J·梵霍尔斯比克;N·J·M·卡尔瓦霍;W·德波谢尔 | 申请（专利权）人： | 贝卡尔特先进涂层公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 比利*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备氧化物溅射靶的方法。所述方法包括如下步骤：提供靶座；通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外层。所述可溅射材料的外层包含第一相和第二相。所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物；所述第二相包含处于其金属性相形式的金属。处于其金属性相形式的所述金属形成设置于所述第一相的氧化物之中或之间的不连续体积。所述外层包含0.1-20wt％的处于其金属性相形式的金属。本发明还涉及氧化物溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 包含 第一 第二 氧化物 溅射 方法 | ||
【主权项】：
一种制备氧化物溅射靶的方法，所述方法包括如下步骤：‑提供靶座；‑通过同时喷射至少一种氧化物和至少一种金属在所述靶座上施加可溅射材料的外层，所述的外层包含第一相和第二相，所述第一相包含至少第一金属和第二金属的氧化物，所述第二相包含处于其金属性相形式的金属，其中处于其金属性相形式的所述金属形成设置于所述第一相的所述氧化物之中或之间的不连续体积，所述外层包含0.1‑20wt％的处于其金属性相形式的金属。
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