[发明专利]高通量光谱成像与光谱装置及方法无效

专利信息
申请号: 200980122368.2 申请日: 2009-04-15
公开(公告)号: CN102066906A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 杰夫·Q·徐;易江平;周小平 申请(专利权)人: 杰夫·Q·徐;易江平;周小平;微宏公司
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/47;G01N21/31
代理公司: 北京嘉和天工知识产权代理事务所 11269 代理人: 严慎
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了一种高通量光谱成像和光谱装置及方法,所述方法通过使用至少一个充分均匀的单色入射辐射源(101,102)和空间分辨阵列检测器(108)获取被测物质的紫外-可见辐射和红外辐射的特性信息。通过在库单元基底(105)上获取平行的光谱成像和光谱来实现高通量分析。该装置和方法包含了用来实现光谱成像和光谱分析的硬件和软件两者。
搜索关键词: 通量 光谱 成像 装置 方法
【主权项】:
一种高通量光谱装置,包括:a.至少一个充分均匀的单色入射辐射源;b.库单元基底,所述库单元基底包括限定多个空腔的多个沉孔;c.一个或更多个光学元件,所述光学元件被排列为将所述辐射源引导到所述库单元基底上;d.移动台,所述移动台与所述库单元基底可操作地接合;e.响应于所述辐射源的空间分辨检测器。
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