[发明专利]高通量光谱成像与光谱装置及方法无效
| 申请号: | 200980122368.2 | 申请日: | 2009-04-15 |
| 公开(公告)号: | CN102066906A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
| 发明(设计)人: | 杰夫·Q·徐;易江平;周小平 | 申请(专利权)人: | 杰夫·Q·徐;易江平;周小平;微宏公司 |
| 主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/47;G01N21/31 |
| 代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 11269 | 代理人: | 严慎 |
| 地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 通量 光谱 成像 装置 方法 | ||
1.一种高通量光谱装置,包括:
a.至少一个充分均匀的单色入射辐射源;
b.库单元基底,所述库单元基底包括限定多个空腔的多个沉孔;
c.一个或更多个光学元件,所述光学元件被排列为将所述辐射源引导到所述库单元基底上;
d.移动台,所述移动台与所述库单元基底可操作地接合;
e.响应于所述辐射源的空间分辨检测器。
2.根据权利要求1所述的装置,其中在所述库单元和所述空间分辨检测器之间的区域中的所述辐射的路径中不存在波长过滤单元。
3.根据权利要求1所述的装置,其中所述辐射源包括提供所述库单元基底充分均匀照射的多个辐射源。
4.根据权利要求1所述的装置,还包括盛放所述入射辐射源的成像箱。
5.根据权利要求1所述的装置,还包括数据采集系统和数据简化系统。
6.根据权利要求1所述的装置,其中由所述单色辐射源提供的所述单色辐射选自由紫外、紫外-可见和红外辐射组成的组。
7.根据权利要求6所述的装置,其中所述辐射源提供具有在约200nm和约800nm之间的波长的辐射。
8.根据权利要求6所述的装置,其中辐射源提供具有在约800nm和约40,000nm之间的波长的辐射。
9.根据权利要求1所述的装置,其中所述单色入射辐射源包括一个或更多个灯、一个或更多个单色器、一个或更多个透镜以及一个或更多个反光镜。
10.根据权利要求1所述的装置,还包括:
a.成像箱;
b.数据采集系统;以及
c.数据简化系统。
11.根据权利要求10所述的装置,其中所述辐射源远离所述成像箱放置,并且被排列为将所述辐射源引导到所述库单元基底上的所述元件包括光缆和光纤准直器。
12.根据权利要求9所述的装置,其中所述单色入射辐射源包括一个或更多个灯、一个或更多个单色器、两个或更多个光缆以及两个或更多个光纤准直器。
13.根据权利要求1所述的装置,所述库单元基底是漫反射库单元,其中所述多个沉孔的一个或更多个包含漫反射所述辐射源的物质。
14.根据权利要求12所述的装置,其中所述物质是选自由粉末和细小颗粒组成的组的固相物质。
15.根据权利要求12所述的装置,其中所述物质是液相物质与漫反射固体介质颗粒的混合物。
16.根据权利要求15所述的装置,其中所述漫反射固体介质颗粒基本上不吸收来自所述辐射源的辐射。
17.根据权利要求15所述的装置,其中所述漫反射固体介质颗粒选自硅石和SPECTRALON材料。
18.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个沉孔以圆形、三角形、矩形或方形的方式排列在所述库单元上。
19.根据权利要求18所述的装置,其中所述多个沉孔适合于在其中进行期望的化学反应。
20.根据权利要求19所述的装置,其中所述化学反应为湿化学反应或干化学反应。
21.根据权利要求18所述的装置,还包括用于将反应物转移到所述库单元中的所述多个沉孔的一个或更多个的设备。
22.根据权利要求21所述的装置,其中所述用于转移反应物的设备包括机械系统或导管系统。
23.根据权利要求1所述的装置,其中所述库单元基底没有阵列沉孔。
24.根据权利要求1所述的装置,其中所述移动台沿X轴,Y轴,Z轴或相对于所述装置的垂直轴成θ角中的至少一个是可移动的,并且还包括用于移动所述移动台到期望位置的计算机操作的控制器。
25.根据权利要求1所述的装置,其中所述空间分辨检测器选自由紫外-可见光检测器和红外光敏感的CCD照相机,红外光敏感的光电二极管阵列检测器及其组合组成的组。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杰夫·Q·徐;易江平;周小平;微宏公司,未经杰夫·Q·徐;易江平;周小平;微宏公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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