[发明专利]用于散射校正的方法和设备无效
| 申请号： | 200980118070.4 | 申请日： | 2009-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN102037495A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | M·贝尔特拉姆;J·维格特;S·G·赫曼 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种校正光子散射的图像重建方法和设备。结合光子散射过程的物理模型使用散射光子的直接物理测量以进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 散射 校正 方法 设备 | ||
【主权项】：
已经由此描述了优选实施例，现在对本发明做出如下权利主张：1.一种用于校正光子散射的方法，所述方法包括：使用光子源(108)生成穿过待成像的受检者(104)的光子；将光子探测器(110)移动到所述受检者(104)周围的多个成像位置，从而在每个成像位置记录图像投影(420)，其中，每幅图像投影(420)包括基本仅暴露于散射光子的散射区域(510)和暴露于一次光子和散射光子的成像区域(530)；针对低频下降校正每幅图像投影(420)的至少一部分；针对每个成像位置应用光子散射过程的模型以产生所述散射区域(510)对散射光子的所述暴露的估计(520)；将每幅图像投影(420)的所述散射区域(510)与所述散射区域(510)对散射光子的所述暴露的所述估计(520)进行比较；至少部分基于所述比较，修改所述模型以生成所述光子散射过程的经更新的模型；以及向每幅图像投影(420)的所述成像区域(530)应用所述经更新的模型以生成经散射校正的图像投影(470)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司，未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980118070.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种润滑油冷却器
- 下一篇：一种广义天体磁旋力模型
