[发明专利]光学膜和含有该光学膜的电子信息器件有效
| 申请号： | 200980115225.9 | 申请日： | 2009-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN102015848A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 严準槿;李敏熙;李南贞;李宗勋;金东烈;曹沙鋎 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;G02B5/30;G02F1/1335;C08L25/04;C08F220/06;C08L33/08;C08L35/06;C08F222/08 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;刘晔 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学膜以及含有该光学膜的偏振板和信息技术器件，该光学膜包含：基于芳香族的单元，所述基于芳香族的单元包含具有含羟基部分的链和芳香族部分；和基于苯乙烯的单元，所述基于苯乙烯的单元包含一种或多种基于苯乙烯的衍生物，并且无论如何拉伸，面内延迟(Rin)和厚度延迟(Rth)的绝对值为10nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 含有 电子信息 器件 | ||
【主权项】：
一种光学膜，其包含：基于芳香族的单元，所述基于芳香族的单元包含具有含羟基部分的链和芳香族部分；和基于苯乙烯的单元，所述基于苯乙烯的单元包含一种或多种基于苯乙烯的衍生物，其中，无论如何拉伸，由下列公式定义的面内延迟(Rin)和厚度延迟(Rth)的绝对值为10nm以下：Rin＝(nx‑ny)×d，Rth＝[(nx+ny)/2‑nz]×dnx是所述膜的面内折射率中最大的折射率，ny是垂直于所述膜的面内折射率nx的方向上的折射率，nz是所述膜的厚度折射率，以及d是所述膜的厚度。
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