[发明专利]用于对准目标的衍射元件有效
| 申请号： | 200980113420.8 | 申请日： | 2009-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN102007456A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | Y·乌拉迪米尔斯基;M·阿力夫;R·A·萨拉尔德森 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供一种图案形成装置，包括具有由多个衍射元件形成的对准特征的对准目标，每个衍射元件包括吸收器叠层和多层反射器叠层。衍射元件配置成在使用具有用于图案形成装置预对准的波长的光进行照射时沿预对准系统的预定方向衍射光并且加强用于图案形成装置预对准的预定衍射级。衍射元件占据每个对准特征的面积的至少一半。衍射元件配置成在使用用于掩模版预对准的波长进行照射时加强第一级或更高级衍射，同时显著地减小零级衍射级和镜面反射。每个衍射元件的尺寸是每个对准特征的衍射光栅周期的函数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 对准 目标 衍射 元件 | ||
【主权项】：
一种对准特征，包括：阵列形式的吸收器叠层；以及耦合到对应的吸收器叠层的阵列形式的多层反射器叠层；其中所述吸收器叠层和多层反射器叠层配置成在被具有用于图案形成装置预对准的波长的光照射时沿预对准系统的预定方向衍射光并加强用于图案形成装置预对准的预定衍射级。
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