[发明专利]用于X射线的源光栅、用于X射线相衬图像的成像装置和X射线计算层析成像系统有效

专利信息
申请号: 200980112851.2 申请日: 2009-04-13
公开(公告)号: CN102047344A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 伊藤英之助;市村好克;中村高士;今田彩 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;G21K7/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李颖
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供用于X射线等的源光栅,所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间,并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120),所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
搜索关键词: 用于 射线 光栅 图像 成像 装置 计算 层析 系统
【主权项】:
一种源光栅,用于X射线,所述源光栅能被放置在X射线源和被检对象之间并且用于X射线相衬成像,其中所述用于X射线的源光栅包括多个子光栅,所述多个子光栅是通过以恒定的间隔周期性地布置各自具有屏蔽X射线的厚度的突出部分而被形成的,通过使所述多个子光栅相互地偏移来多层地层叠所述多个子光栅,以及所述用于X射线的源光栅具有这样的结构:在该结构中,使得作为由周期性地布置的突出部分之间的间隔形成的X射线透射区域的孔径的宽度比子光栅中的每一个的孔径宽度窄。
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