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[发明专利]用于光学检查的处理装置和检查设备以及对应的方法-CN202180095109.6在审
发明人：焦琳淇;杨春鑫;张飞;周元平;李民权;赵伟;冯圣威 -专利权人：徕卡显微系统科技（苏州）有限公司
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：一种检查系统和对应的方法。检查系统包括一种在用于样本(160)光学检查的检查设备(100)中使用的处理装置(130)，该处理装置(130)配置成：联接到光学检查手段(110)的摄像机(116)，联接到包括显示手段(122)的用户接口手段(120)，从用户接口手段(120)和/或摄像机(116)接收输入数据，向用户接口手段(120)提供输出数据，并且联接到存储手段(180)并且访问存储手段(180)以存储和提取数据；其中，处理装置(130)配置成通过访问存储在存储手段(180)处的指令数据(190)，经由用户接口手段(120)提供用于将由用户(150)执行的样本(160)光学质量检查的指令(192)，使得指令(192)作为输出数据提供到用户接口手段(120)，其中指令(192)包括针对用户(150)的关于要对哪个样本(160)执行哪种光学质量检查的预定义指令，其中处理装置(130)配置成经由用户接口手段(120)从光学质量检查接收质量报告数据(196)和/或接收由摄像机(116)获取的图像的图像数据作为输入数据，并且将质量报告数据(196)和/或图像数据存储在存储手段(180)中。
用于光学检查处理装置设备以及对应方法

[发明专利]一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构-CN202211343760.3在审
发明人：李亚冉;孙涵涵;穆宝忠;马焕臻 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明公开了X射线光学技术领域的一种高分辨率高集光效率的X射线显微成像光学结构，包括开放式旋转双曲面镜、开放式旋转椭球面镜、成像探测器和成像物平面；建立光学结构的方法如下：建立空间直角坐标系，将开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜置于空间直角坐标系的第八象限，其中，开放式旋转双曲面镜与开放式旋转椭球面镜保持相近的掠入射角度；开放式旋转双曲面镜与开放式旋转椭球面镜保持同轴共焦点；调节开放式旋转双曲面镜和开放式旋转椭球面镜之间的角度，确定双曲面焦点和椭球面焦点的位置；双曲面焦点和椭球面焦点均位于空间直角坐标系的x轴上，成像物平面位于双曲面焦点处，成像探测器位于椭球面焦点处。
一种高分辨率高集光效率射线显微成像光学结构

[发明专利]一种串联型正交式等放大倍数的X射线显微成像光学结构-CN202211517135.6在审
发明人：李亚冉;孙涵涵;穆宝忠;马焕臻 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种串联型正交式等放大倍数的X射线显微成像光学结构，涉及显微成像技术领域，其技术方案要点是：包括物平面、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜和像平面；物平面设有物点，像平面设有像点；物平面、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜和像平面依次设置，第一反射镜和第三反射镜在子午方向的聚焦成像，第二反射镜在弧矢方向的聚焦成像。该光学结构有助于改善串联型正交式掠入射X射线显微成像光学结构客观存在的两个聚焦方向上放大倍数不一致的难题，减小由于放大倍数不一致引起的图像畸变，提升X射线显微成像对物方目标形状、轮廓的刻画能力。
一种串联正交放大倍数射线显微成像光学结构

[发明专利]X射线显微镜-CN201680054724.1有效
发明人：松山智至;山田纯平 -专利权人：国立大学法人大阪大学
申请日： 2016-09-23 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：为了提供缩短路长、搬入室内尺寸的X射线显微镜，制作了一种X射线显微镜，该X射线显微镜沿光轴依次具有至少下述各一个：X射线源1、样品保持部3、凹面KB镜4、凸面KB镜5、以及位于与样品保持部3的位置为成像关系的位置的光接收部8。
射线显微镜

[实用新型]正交双源双探测器X射线显微镜系统-CN202022007236.1有效
发明人：闫慧龙;李志军 -专利权人：斯托克斯检测技术（北京）有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种正交双源双探测器X射线显微镜系统，包括：底座；可移动式设置在底座中部的载物台；可移动式设置的第一射线源组件和第一探测器组件，第一探测器接收由第一射线源形成的扫描图像；固定的第二射线源组件和可移动式设置的第二探测器组件，第二探测器接收由第二射线源形成的扫描图像。通过本实用新型方案，两种焦点尺寸的射线源处于同一平台，实现不同的放大效果，为各种尺寸试件的CT检测提供了一个完整的平台，满足对空间分辨率、工件大小、设备数量的不同要求；可以使用一套控制系统，一套采集分析软件，成本低，效果佳，维护成本低，数据直观。
正交双源双探测器射线显微镜系统

[发明专利]一种多层膜X射线波带片的制备方法-CN201810413498.2有效
发明人：李艳丽;孔祥东;韩立 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：一种多层膜X射线波带片的制备方法，首先根据设计的波带片高度，在作为波带片主体支撑的中心细丝(1)的侧表面进行选择性遮挡，随后采用薄膜沉积方法在中心细丝(1)表面交替沉积两种薄膜材料，该多层膜作为波带片的环带结构，每层薄膜的厚度沿径向按波带片的设计需求逐层递减，在多层膜的外表面再沉积一层保护膜，完成沉积后去除中心细丝(1)上的遮挡物，在中心细丝(1)上得到多个多层膜波带片结构，然后利用离子束对每个多层膜截面进行刻蚀、抛光，最后在无多层膜处切断中心细丝(1)，即可得到所需波带片。
一种多层射线波带片制备方法

[发明专利]一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法-CN201610874398.0有效
发明人：王占山;张哲;吴子若;伊圣振 -专利权人：同济大学
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种八通道Kirkpatrick‑Baez显微镜的精密装配方法，每两块反向对称排列的反射镜构成一个镜对，各镜对分别设计成具有特定的镜面间距和镜面夹角，使得各通道最佳视场的位置重合并且像点间隔符合分幅相机微带的间隔，通过X射线成像实验确保最佳视场位置重合并且控制各像点位于分幅相机微带范围以内，最后将调节完毕的三对反射镜胶合固化为一套八通道KB物镜。与现有技术相比，本发明方法避免了现有多通道KB物镜装配过程中对光学元件的苛刻要求，同时避免了现有间接装配方式存在的误差引入问题，因此最终的装配精度高。
一种通道 kirkpatrick baez 显微镜精密装配方法

[发明专利]多能量X射线显微镜数据采集及图像重建系统及方法-CN201480008362.3有效
发明人：托马斯·A·凯斯;苏珊·坎德尔;斯里瓦特桑·瑟哈德里;保罗·麦吉尼斯 -专利权人：卡尔蔡司X射线显微镜公司
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：一种多能量，如双能量(DE)，X射线成像系统数据采集和图像重建系统和方法可最优化样本的图像对比度。使用该DE X射线成像系统及其相关用户界面应用程序，操作者可对利用相同量的样品进行低能(LE)和高能(HE)X射线扫描。该系统通过低能投影创建低能重建断层体数据集，并通过高能投影创建高能重建断层体数据集。这使得操作者可控制被选择片的图像对比度，并将与所述最优化该被选择片的对比度的相关信息应用到断层体数据集的所有片中。这创建了来自LE和HE体数据集的组合体数据集。
多能射线显微镜数据采集图像重建系统方法

[实用新型]窗口式氮化硅板-CN201620360000.7有效
发明人：王建平 -专利权人：苏州原位芯片科技有限责任公司
申请日： 2016-04-26 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种窗口式氮化硅板，包括有硅垫底层，其特点是：硅垫底层的上方外围设置有单晶硅外框，硅垫底层上分布有凹槽结构，凹槽内分布有若干单晶硅支架梁，若干单晶硅支架梁相互之间间隔排布，构成框架阵列，框架阵列之间形成氮化硅窗口，硅垫底层的上方、硅垫底层的下方、单晶硅支架梁的顶端，均分布有氮化硅膜层。由此，单晶硅支架梁的高度与宽度采用精简化设计，保证承载能力的同时，无需向外延长发展，降低了使用成本。并且，即便是某些特殊情况下，需要进行外延分布，高度亦可以超过20um，减少了规格上的限制。采用框架阵列的构造，整体结构稳定，有效承载外界应力。制造便利，实施工艺简单，实际投产的成品优良率高。
窗口氮化

[发明专利]掩模检测系统的照明光学单元和具有这种照明光学单元的掩模检测系统-CN201480013545.4在审
发明人： M.德冈瑟;T.科布 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2014-02-28 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：一种掩模检测系统的照明光学单元(1)，用于EUV光(2)下。照明光学单元(1)的中空波导(9)用于引导照明光(2)。中空波导(9)具有照明光(2)的入射开口(7)和照明光(2)的出射开口(10)。成像反射镜光学单元(11)设置在中空波导(9)的下游，用于将出射开口(10)成像于照明场(4)中。这导致通量针对EUV照明光优化的照明光学单元。
检测系统照明光学单元具有这种

[实用新型]成像窗口-CN201420468643.4有效
发明人：王晟 -专利权人：上海纳腾仪器有限公司
申请日： 2014-08-19 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本实用新型成像窗口，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；通孔，多个所述通孔贯穿设置在所述氮化硅膜上；沟槽，所述沟槽设置在所述衬底上，所述沟槽贯穿所述衬底；其中所述沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部；所述沟槽的顶面的位置与多个所述通孔的位置相对应。本实用新型成像窗口使创口具有高亲水性，成为生物和湿细胞的理想承载体，可以实现TEM、SEM、AFM、XPS、EDX的同一区域的交叉配对表征。同时，在高透射率基础上，获得超大视野范围。
成像窗口

[实用新型]氮化硅薄膜窗口-CN201420467096.8有效
发明人：王晟 -专利权人：上海纳腾仪器有限公司
申请日： 2014-08-19 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本实用新型氮化硅薄膜窗口，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。本实用新型氮化硅薄膜窗口实现了保证软X射线高透过率的同时，也保证了较好的应力。同时可以实现多样品的测量，对比效果更好。
氮化薄膜窗口

[发明专利]实现显微镜系统超分辨成像的方法-CN201210111518.3有效
发明人：吴自玉;高昆;陈健;葛昕;王志立;王大江;潘志云 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种实现显微镜系统超分辨成像的方法。该方法基于一包括光源、聚焦镜、物镜和图像探测器的显微镜系统，包括：搭建显微镜系统；改变显微镜系统中聚焦镜的数值孔径，采集样品的分别对应不同聚焦镜数值孔径的至少两张暗场像；在至少两张暗场像中分别提取对应像素的散射强度值，构造以聚焦镜数值孔径为自变量，以所提取的散射强度值为因变量的实验散射强度曲线；由实验散射强度曲线获得样品上瑞利分辨单元内部亚分辨尺度的微观结构信息，实现显微镜的超分辨成像。本发明具有突破显微镜系统的固有分辨率极限、并提升成像衬度的优点。
实现显微镜系统分辨成像方法

[发明专利]一种X射线KBA显微成像系统-CN201210424817.2有效
发明人：伊圣振;穆宝忠;王新;王占山;章逸舟 -专利权人：同济大学
申请日： 2012-10-30 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种X射线KBA显微成像系统，该系统包括物镜M1、物镜M2、物镜M3、物镜M4、光学棱镜块N1及光学棱镜块N2，其中在子午方向上的物镜M1和物镜M2的工作反射面顶靠在光学棱镜块N1具有夹角η1的两个相邻面T1面和T2面上，在弧矢方向上的物镜M3和物镜M4的工作反射面顶靠在光学棱镜块N2具有夹角η2的两个相邻面T3面和T4面上。与现有技术相比，本发明结构简单，对物镜工作反射面与背面的角度和厚度没有精度要求，显著降低了KBA系统的光学元件加工难度和成本，提高了KBA系统的装配精度以及最终成像质量。
一种射线 kba 显微成像系统

[发明专利]一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统-CN201210424894.8有效
发明人：伊圣振;穆宝忠;王占山;章逸舟;王新 -专利权人：同济大学
申请日： 2012-10-30 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： G21K7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统，该系统包括在子午方向上依次排列的两块KB物镜和在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜；物点发出的X射线经过子午方向上的两块KB物镜分别反射后形成两个通道的一维成像，随后两个通道的一维成像再经过弧矢方向上的两块KB物镜分别反射后形成四个通道的两维成像。与现有技术相比，本发明提出的四通道KB系统的四块KB物镜采用依次排列的方式，在空间上没有相互干扰，也就降低了装调难度，显著降低了四通道KB系统对背光X射线尺寸的要求，相应的提高了单位面积上的背光X射线强度，拓展了四通道KB系统在ICF物理实验中的应用范围，适合在我国目前强激光装置上使用。
一种尺寸背光工作通道 kb 显微成像系统

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