[实用新型]一种内衬及应用该内衬的等离子装置有效
| 申请号： | 200920246343.0 | 申请日： | 2009-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201584396U | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 彭宇霖 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/16 | 分类号： | H01J37/16;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡剑辉;王漪 |
| 地址： | 100015 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种内衬，包括：筒壁和底部，筒壁和底部之间具有曲面过渡段，在所述曲面过渡段和底部上均设置有贯通口。此外，本实用新型还公开了一种等离子体装置，包括内部设置基片夹持装置的反应腔室、真空获得系统，所述反应腔室内设置有如上所述的内衬。本实用新型通过在筒壁和底部之间设置曲面过渡段，并在曲面过渡段上开设用于流通气体的贯通孔，从而增加了气体的流量，满足了对反应装置大流量低压力的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 内衬 应用 等离子 装置 | ||
【主权项】：
一种内衬，包括：筒壁和底部，其特征在于，筒壁和底部之间具有曲面过渡段，在所述曲面过渡段和底部上均设置有贯通口。
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