[实用新型]一种自偏振电光调Q晶体无效
申请号: | 200920229521.9 | 申请日: | 2009-11-06 |
公开(公告)号: | CN201523152U | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 朱长虹;朱晓;齐丽君;朱广志;郭飞 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01S3/115 | 分类号: | H01S3/115 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种自偏振电光调Q晶体,包括第一、第二通光面,其中第一通光面垂直于晶体的光轴方向,其特征在于:第二通光面为切割而成,且与第一通光面的夹角等于α或90°-α,其中,α=90°-arctg(n),n为晶体的折射率。本实用新型将电光晶体按照一定的角度进行切割,切割平面与晶体的某些面夹角α满足晶体布儒斯特角的余角的条件,保证横向半波电压可有效关断腔内光路,此时电光晶体也起到检偏镜的作用。通光面和切割出的平面镀有相应激光波长的增透膜。本实用新型适用于横向电光调Q晶体,如BBO、RTP、LN等。在实际应用中可以起到将电光调Q晶体和布儒斯特镜合二为一的作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 偏振 电光 晶体 | ||
【主权项】:
一种自偏振电光调Q晶体,包括第一、第二通光面,其中第一通光面垂直于晶体的光轴方向,其特征在于:第二通光面为切割面,该切割面镀有增透膜层,第二通光面与第一通光面的夹角等于α或90°-α,其中,α=90°-arctg(n),n为晶体的折射率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920229521.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种双分裂导线间隔卡
- 下一篇:带线插座