[实用新型]一种自偏振电光调Q晶体无效

专利信息
申请号: 200920229521.9 申请日: 2009-11-06
公开(公告)号: CN201523152U 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 朱长虹;朱晓;齐丽君;朱广志;郭飞 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01S3/115 分类号: H01S3/115
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种自偏振电光调Q晶体,包括第一、第二通光面,其中第一通光面垂直于晶体的光轴方向,其特征在于:第二通光面为切割而成,且与第一通光面的夹角等于α或90°-α,其中,α=90°-arctg(n),n为晶体的折射率。本实用新型将电光晶体按照一定的角度进行切割,切割平面与晶体的某些面夹角α满足晶体布儒斯特角的余角的条件,保证横向半波电压可有效关断腔内光路,此时电光晶体也起到检偏镜的作用。通光面和切割出的平面镀有相应激光波长的增透膜。本实用新型适用于横向电光调Q晶体,如BBO、RTP、LN等。在实际应用中可以起到将电光调Q晶体和布儒斯特镜合二为一的作用。
搜索关键词: 一种 偏振 电光 晶体
【主权项】:
一种自偏振电光调Q晶体,包括第一、第二通光面,其中第一通光面垂直于晶体的光轴方向,其特征在于:第二通光面为切割面,该切割面镀有增透膜层,第二通光面与第一通光面的夹角等于α或90°-α,其中,α=90°-arctg(n),n为晶体的折射率。
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