[实用新型]一种透明导电氧化物薄膜制备设备无效
| 申请号： | 200920135777.3 | 申请日： | 2009-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN201339060Y | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 王凯;姚栋 | 申请（专利权）人： | 王凯;姚栋 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/38;C23C14/40 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518001广东省深圳市罗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及透明导电氧化物薄膜，特别涉及透明导电氧化物薄膜的制备设备，包括：带有抽真空系统和进气系统的封闭反应室；在封闭反应室内设有可运动或旋转的基板架，并配有加热器与挡板；与基板架相对设置的溅射源；其不同之处在于，在基板架与溅射源之间还设有氧离子源。氧离子源与基板架中心角度在0到180度范围内可调。本实用新型在现有技术的技术的基础上增加了独立的氧离子源，用活性等离子体氧取代氧气作为反应物，大大降低了阳极“消失”和阴极“中毒”的几率，减少了“起弧”频率，提高了系统的运行稳定性，且结构简单，造价低，运行及维护成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透明 导电 氧化物 薄膜 制备 设备 | ||
【主权项】：
1、一种透明导电氧化物薄膜制备设备，包括：带有抽真空系统(9)和进气系统(10)的封闭反应室(1)；在封闭反应室(1)内设有可运动或旋转的基板架(7)，并配有加热器(8)与挡板(13)；与基板架(7)相对设置的溅射源；其特征在于，在基板架(7)与溅射源之间还设有氧离子源(6)。
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