[发明专利]铝电解槽氧化铝浓度的控制方法有效
| 申请号： | 200910306846.7 | 申请日： | 2009-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101643920A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 马绍良;曹新乐;林玉胜;魏强;徐进 | 申请（专利权）人： | 中国铝业股份有限公司 |
| 主分类号： | C25C3/30 | 分类号： | C25C3/30 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100082北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铝电解槽氧化铝浓度的控制方法，包括如下步骤，停止向所述铝电解槽中下料，调整下料间隔：当单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于1.5且小于2.5，下料间隔为正常氧化铝下料间隔；当单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于等于0.5且小于等于1.5，下料间隔为在正常氧化铝下料间隔基础上增加1～5秒；当单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于等于2.5且小于等于3.0，下料间隔为在正常氧化铝下料间隔基础上减少1～5秒；然后，连续进行槽电压采样，当槽电压的值减去设定电压的值大于等于30毫伏时，开始下料。本发明的铝电解槽氧化铝浓度的控制方法，氧化铝的浓度平均在1.5-2.5％。 | ||
| 搜索关键词： | 电解槽 氧化铝 浓度 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.铝电解槽氧化铝浓度的控制方法，是针对运转的采用智能模糊控制技术的铝电解槽，包括如下步骤：停止向所述铝电解槽中下料，调整下料间隔：当所述铝电解槽单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于1.5且小于2.5，下料间隔为正常氧化铝下料间隔；当所述铝电解槽单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于等于0.5且小于等于1.5，下料间隔为在正常氧化铝下料间隔基础上增加1～5秒；当所述铝电解槽单位时间内过量次数与欠量次数的比值大于等于2.5且小于等于3.0，下料间隔为在正常氧化铝下料间隔基础上减少1～5秒；然后，连续进行所述铝电解槽槽电压采样，当所述铝电解槽槽电压的值减去设定电压的值大于等于30毫伏时，开始下料。
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