[发明专利]光罩的检测方法及装置无效
申请号: | 200910306112.9 | 申请日: | 2009-08-26 |
公开(公告)号: | CN101639623A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 杜武兵;林伟 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 深圳市维邦知识产权事务所 | 代理人: | 黄 莉 |
地址: | 518000广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种光罩的检测方法,该方法包括以下步骤:在光罩的左上、左中、左下、中上、中下、右上、右中、及右下边缘处各放置一个用于检测光罩总长度的十字形标识;在光罩上摆放多组不同长度的线形标识和多组不同长度的方形标识;分别测量从所述左中处十字形标识到右中处十字形标识之间的距离、从所述中上处十字形标识到中下处十字形标识之间的距离,得出光罩的总长度;通过测量所述线形标识和方形标识,分别得出光罩的线条精度和方格精度。本发明还公开了一种光罩的检测装置。本发明可准确、方便地检测不规则形状光罩的精度,这种固定点测量技术还可节省测试时间,正负效果的图形还可以同时测试,便于工艺的调整。 | ||
搜索关键词: | 检测 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光罩的检测方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:在光罩的左上、左中、左下、中上、中下、右上、右中、及右下边缘处各放置一个用于检测光罩总长度的十字形标识;在光罩上摆放多组不同长度的线形标识和多组不同长度的方形标识;分别测量从所述左中处十字形标识到右中处十字形标识之间的距离、从所述中上处十字形标识到中下处十字形标识之间的距离,得出光罩的总长度;通过测量所述线形标识和方形标识,分别得出光罩的线条精度和方格精度。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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