[发明专利]掩模版扫描装置有效

专利信息
申请号: 200910252942.8 申请日: 2009-12-04
公开(公告)号: CN102087478A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 丁伟尧 申请(专利权)人: 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种应用于光刻机的掩模版扫描装置,包括:扫描器,包括支架以及设于所述支架的扫描探头;驱动装置,包括电动马达以及传动件;二个光电传感器,适于获取所述扫描器的扫描探头的位置信息;控制单元,与所述驱动装置和光电传感器电性连接,适于根据所述光电传感器所传送的位置信息控制所述驱动装置中的电动马达运作。本发明采用马达驱动方式,能控制所述扫描器平稳且自如地移动。
搜索关键词: 模版 扫描 装置
【主权项】:
一种掩模版扫描装置,其特征在于,包括:扫描器,其包括具有第一、第二末端的支架以及设于所述支架的第一末端用于产生扫描光源的扫描探头;驱动装置,包括提供驱动力的电动马达以及受所述电动马达控制且与所述扫描器的支架的第二末端相连接的传动件;光电传感器,设于对应所述扫描器的扫描探头的初始位置和目标位置的区域,适于获取所述扫描器的扫描探头的位置信息;控制单元,与所述驱动装置和光电传感器电性连接,适于根据所述光电传感器所传送的位置信息控制所述驱动装置中的电动马达运作。
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