[发明专利]束流密度分布和角度分布测量装置及方法、束流控制方法有效
| 申请号： | 200910248007.4 | 申请日： | 2009-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102115874A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 洪俊华;钱锋;陈炯 | 申请（专利权）人： | 上海凯世通半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;G01R19/00;G01B7/30 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 薛琦;朱水平 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于测量离子束密度分布和角度分布的装置，其包括一个一维测量单元、一个二维测量单元和一个信号处理单元，该一维测量单元包括：一开口狭长的第一法拉第杯，该第一法拉第杯设有一块流强信号接收板；该二维测量单元包括：至少一个第二法拉第杯，和/或至少一个第三法拉第杯，和/或至少一个第四法拉第杯，该第二法拉第杯设有一块流强信号接收板，该第三法拉第杯设有对称分布的两块流强信号接收板，该第四法拉第杯设有呈中心对称分布的四块流强信号接收板；该信号处理单元用于计算获得束流的密度分布和角度分布。本发明还公开了一种测量离子束密度分布和角度分布的方法，以及一种控制离子束密度分布和角度分布的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 密度 分布 角度 测量 装置 方法 控制 | ||
【主权项】：
一种用于测量离子束密度分布和角度分布的装置，其特征在于，其包括一个一维测量单元、一个二维测量单元和一个信号处理单元，该一维测量单元包括：一开口狭长的第一法拉第杯，该第一法拉第杯设有一块流强信号接收板；该二维测量单元包括：至少一个第二法拉第杯，和/或至少一个第三法拉第杯，和/或至少一个第四法拉第杯；其中，该第二法拉第杯设有一块流强信号接收板，该第三法拉第杯设有对称分布的两块流强信号接收板，该第四法拉第杯设有呈中心对称分布的四块流强信号接收板；该信号处理单元用于根据该第一法拉第杯的流强信号计算束流在该狭长开口处的线积分密度分布，根据该第二法拉第杯的流强信号计算束流在该第二法拉第杯处的密度分布，根据该第三法拉第杯的两组流强信号计算束流在该第三法拉第杯处的密度分布和一维角度分布，根据该第四法拉第杯的四组流强信号计算束流在该第四法拉第杯处的密度分布和二维角度分布。
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