[发明专利]用磁力掩膜制作红外焦平面封装窗口的方法无效
| 申请号： | 200910247648.8 | 申请日： | 2009-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102116675A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 周东平;赵培 | 申请（专利权）人： | 上海欧菲尔光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/02 | 分类号： | G01J5/02 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 杨元焱 |
| 地址： | 200434 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用磁力掩膜制作红外焦平面封装窗口的方法，其中的红外薄膜是通过将基片夹在一块磁铁和一块用磁性材料制作的红外薄膜掩膜片之间，用掩膜片将四周金属化区遮盖，留出中间红外薄膜区镀制而成；金属薄膜是通过将己镀制好红外薄膜的基片夹在一块磁铁和一块用磁性材料制作的金属薄膜掩膜片之间，将红外薄膜覆盖住，留出四周金属化区镀制而成。本发明的方法利用磁力将掩膜片与基片固定在一起，不涉及化学方法制备图形，因此能有效减小制备过程中的化学污染，增加薄膜与基片的附着力，并降低生产过程对环境的污染。掩膜片与磁铁均可重复利用，因此大大降低了掩膜图形的制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磁力 制作 红外 平面 封装 窗口 方法 | ||
【主权项】：
一种用磁力掩膜制作红外焦平面封装窗口的方法，是在一块矩形或圆形基片的中间部分镀制一层矩形或圆形红外薄膜作为红外薄膜区，在四周镀制一层金属薄膜作为金属化区；其特征在于：所述的红外薄膜是通过将基片夹在一块磁铁和一块用磁性材料制作的红外薄膜掩膜片之间，用掩膜片将四周金属化区遮盖，留出中间红外薄膜区镀制而成；所述的金属薄膜是通过将己镀制好红外薄膜的基片夹在一块磁铁和一块用磁性材料制作的金属薄膜掩膜片之间，将红外薄膜覆盖住，留出四周金属化区镀制而成。
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