[发明专利]一种塑料表面溅射铝箔生产方法无效
申请号: | 200910220585.7 | 申请日: | 2009-12-09 |
公开(公告)号: | CN102094177A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 张浩智;韩绍娟;许壮志;薛健;张明;景菲 | 申请(专利权)人: | 沈阳临德陶瓷研发有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/20 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所 21229 | 代理人: | 甄玉荃 |
地址: | 110400 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种塑料表面溅射铝箔生产方法,具体地说是一种采用非平衡磁控溅射在塑料表面覆铝箔的方法。该铝箔在塑料表面主要起到导电的作用。工艺步骤:1、基片预处理:在制备薄膜前需对塑料表面进行预处理。预处理工艺过程为:除油脂→超声清洗→活化→真空干燥。2、薄膜制备:固定工件→抽本底真空→轰击清洗净化工件→调节溅射气体压力→确定基片偏压→确定基片占空比→确定溅射占空比→关闭靶电源→偏压电源→气源→停工件转架→开启工作室→取出工件。用这种方法生产的铝箔厚度均匀,光洁度好、膜层组织更为致密、铝箔与塑料的结合强度好。 | ||
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【主权项】:
一种塑料表面溅射铝箔的生产方法,其特征在于:所述方法是采用非平衡磁控溅射法并通过下述工艺步骤实现:(1)基片预处理在制备薄膜前需对塑料表面进行预处理,预处理工艺过程为:除油脂→超声清洗→活化→真空干燥;(2)薄膜制备工艺过程为:固定工件→抽本底真空→轰击清洗净化工件→调节溅射气体压力→确定基片偏压→确定基片占空比→确定溅射占空比→关闭靶电源→偏压电源→气源→停工件转架→开启工作室→取出工件。
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