[发明专利]一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法

摘要

本发明公开了一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法，按照以下步骤：(1)制作阴极；(2)制作下层SiO2绝缘层；(3)制作绝缘介质层；(4)制作上层SiO2绝缘层；(5)制作顶删极；(6)制作阴极发射体，完成后板的制作。本发明的改进印刷型场致发射显示器后板的制作工艺，提高了顶栅结构FED后板栅极与阴极之间的绝缘性能，保证整个场致发射显示器的可靠性和稳定性。

主权项

一种顶栅结构场致发射显示器后板，包括玻璃基板(1)、印制在玻璃基板(1)上的阴极(2)、阴极(2)上的绝缘介质层(4)和玻璃基板(1)最上部的栅极(6)，在阴极(2)上正交分布的栅极(6)之间设有阴极发射体(7)，其特征在于：所述玻璃基板(1)上位于阴极(2)和绝缘介质层(4)之间设置有下层SiO2绝缘层(3)，以及绝缘介质层(4)和栅极(6)之间设置有上层SiO2绝缘层(5)。