[发明专利]用于辐射吸收和检测的半导体材料有效

专利信息
申请号: 200910175518.8 申请日: 2009-09-17
公开(公告)号: CN101710594A 公开(公告)日: 2010-05-19
发明(设计)人: B·A·克罗西尔;A·艾万;D·B·麦德维特 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;G01T1/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 庞立志;韦欣华
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于辐射吸收和检测的半导体材料,其包括化学计量Li(M12+,M22+,M32+,...)(G1V,G2V,G3V,...)的并且显示出反萤石型排序的组成,其中Li=1,(M12++M22++M32++...)=1,和(G1V+G2V+G3V+...)=1。该材料提供了两个有用的特性:[1]高Li-位点密度,其当富集于6Li时,产生了异常的中子-吸收能力,和[2]用于有效地将所吸收的光子和中子能量转化为电流的半导能带隙。这些特性可在发电或γ和中子辐射的光谱检测的应用中被利用。该材料可以被定制以便仅仅检测γ光子,仅仅检测中子粒子,或同时检测γ光子和中子粒子。
搜索关键词: 用于 辐射 吸收 检测 半导体材料
【主权项】:
用于辐射吸收和检测的半导体材料,其包括化学计量LiM2+GV的并且显示出反萤石型排序的三元组成,其中化学计量部分是Li=1,M2+=1,和GV=1,其中电子空穴对通过辐射吸收产生,并且电子空穴对通过产生电流脉冲来检测。
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