[发明专利]光学物品及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910174021.4 申请日: 2009-10-16
公开(公告)号: CN101726767A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 野口崇;西本圭司;福井智仁 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B3/00;B32B7/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及光学物品及其制造方法,本发明提供具有优异的耐擦伤性的抗反射层和其制造方法、以及形成有该抗反射层的塑料透镜。本发明的光学物品在基材上具备抗反射层,其特征在于,上述抗反射层由低折射率层和高折射率层交替层积的9层构成,构成上述抗反射层的各折射率层之中,以最靠近基材侧的层为第1层,依次向外侧连续赋予层编号,层编号每次增加1,将奇数编号层设定为低折射率层,将偶数编号层设定为高折射率层,设设计主波长λ0在480nm~550nm的范围、上述各折射率层的光学膜厚为λk时,满足以下的式(1)或式(2),所述k为上述层编号。0.8λ0≤λ1≤1.2λ0(1);0.8λ0≤λ3≤1.2λ0(2)。
搜索关键词: 光学 物品 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学物品,其在基材上具备抗反射层,其特征在于,上述抗反射层由低折射率层和高折射率层交替层积的9层构成,构成上述抗反射层的各折射率层之中,以最靠近基材侧的层为第1层,依次向外侧连续赋予层编号,层编号每次增加1,将奇数编号层设定为低折射率层,将偶数编号层设定为高折射率层,设设计主波长λ0在480nm~550nm的范围、上述各折射率层的光学膜厚为λk时,满足以下的式(1)和式(2)中的至少任意一个条件,所述k为上述层编号,0.8λ0≤λ1≤1.2λ0(1)0.8λ0≤λ3≤1.2λ0(2)。
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