[发明专利]光学物品及其制造方法无效
申请号: | 200910174021.4 | 申请日: | 2009-10-16 |
公开(公告)号: | CN101726767A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 野口崇;西本圭司;福井智仁 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B3/00;B32B7/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及光学物品及其制造方法,本发明提供具有优异的耐擦伤性的抗反射层和其制造方法、以及形成有该抗反射层的塑料透镜。本发明的光学物品在基材上具备抗反射层,其特征在于,上述抗反射层由低折射率层和高折射率层交替层积的9层构成,构成上述抗反射层的各折射率层之中,以最靠近基材侧的层为第1层,依次向外侧连续赋予层编号,层编号每次增加1,将奇数编号层设定为低折射率层,将偶数编号层设定为高折射率层,设设计主波长λ0在480nm~550nm的范围、上述各折射率层的光学膜厚为λk时,满足以下的式(1)或式(2),所述k为上述层编号。0.8λ0≤λ1≤1.2λ0(1);0.8λ0≤λ3≤1.2λ0(2)。 | ||
搜索关键词: | 光学 物品 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学物品,其在基材上具备抗反射层,其特征在于,上述抗反射层由低折射率层和高折射率层交替层积的9层构成,构成上述抗反射层的各折射率层之中,以最靠近基材侧的层为第1层,依次向外侧连续赋予层编号,层编号每次增加1,将奇数编号层设定为低折射率层,将偶数编号层设定为高折射率层,设设计主波长λ0在480nm~550nm的范围、上述各折射率层的光学膜厚为λk时,满足以下的式(1)和式(2)中的至少任意一个条件,所述k为上述层编号,0.8λ0≤λ1≤1.2λ0(1)0.8λ0≤λ3≤1.2λ0(2)。
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