[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910173478.3 | 申请日： | 2006-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101655671A | 公开（公告）日： | 2010-02-24 |
| 发明（设计）人： | N·R·坎帕;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;N·坦凯特;F·范德穆伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和一种器件制造方法。所述光刻装置包括围绕充满液体的空间的密封元件，其具有在其下表面对相对低的压力源和相对高的压力源开口的凹槽，通过该凹槽，液体和/或气体从所述密封元件和所述基底之间排出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，设置为利用投影系统将来自构图装置的图案投影至基底上，并具有设置为将浸液提供至该投影系统的末端元件和该基底之间的空间的液体供给系统；所述液体供给系统包括：密封元件，用于在其下表面和所述基底之间形成密封，从而基本上将所述液体限制在所述空间中，其中，在所述下表面中的凹槽向着用于排出液体和/或气体的第一压力源开口，所述凹槽还向着第二压力源开口，所述第一压力源的压力低于所述第二压力源，使得气体从所述第二压力源流入所述第一压力源。
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