[发明专利]从卤代硅烷中除去含硼杂质的方法以及实施该方法的装置有效
| 申请号： | 200910147546.9 | 申请日： | 2009-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101607712A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | B·塞利格;N·希拉德贝克;I·波利;A·梅克伦伯格;R·肖尔克;H·劳莱德;F·科罗普夫冈斯;J·迪芬巴赫 | 申请（专利权）人： | 赢创德固赛有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B33/107 | 分类号： | C01B33/107 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周 铁;林 森 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种从卤代硅烷中除去含硼杂质的方法以及实施该方法的装置。本发明涉及一种减少组合物I中含硼化合物的含量的方法，所述组合物I包含至少一种硅卤化物，尤其是n等于0，1，2或3的HnSiCl4-n类型的氯硅烷，该方法通过在第一步骤中将少量水分引入组合物I中和在第二步骤中分离水解的含硼和/或硅的化合物而实现，从而得到硼含量减少的预纯化的组合物II，尤其是第一和第二步骤可以在至少一个或多个循环中运行。还要求保护一种实施所述方法的装置以及其中集成有该装置的总装置。 | ||
| 搜索关键词： | 硅烷 除去 杂质 方法 以及 实施 装置 | ||
【主权项】：
1.减少包含至少一种硅卤化物的组合物I中硼含量的方法，-其中，在第一步骤中，组合物I与至多600mg水分/千克组合物I(1)接触，-任选地将第一步骤的与水分接触了的组合物I至少一次完全或部分地供入分步骤，以分离水解的含硼和/或硅的化合物，得到预纯化的组合物IIa1→∝，将其完全或部分地重新供入该方法的第一步骤或第二步骤中，-其中，在第二步骤中，将水解的含硼和/或硅的化合物蒸馏分离，其中，作为馏出液，得到硼含量减少的预纯化的组合物II。
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