[发明专利]确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体有效
| 申请号： | 200910138754.2 | 申请日： | 2009-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101561640A | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | D·W·布里;R·布林克霍夫;F·斯达尔斯;R·弗兰肯;E·J·库普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种确定曝光设置的方法、光刻曝光设备、计算机程序和数据载体。一种在光刻曝光过程中确定衬底上目标区域的曝光设置的方法，包括通过沿相对于校准区域位置的第二和第三方向在多个校准位置处确定沿第一方向的校准区域的位置，提供校准数据。该方法还包括通过以下步骤提供制造数据：沿第二和第三方向建立目标区域的衬底上的位置；和在相对于沿第二和第三方向的曝光区域的位置的至少一个测量位置处测量沿第一方向的曝光区域的位置。该方法进一步包括在至少一个第一相对测量位置和多个相对校准位置之间执行对比，和利用对比来基于沿第一方向的曝光区域的所测量位置和校准数据确定曝光设置，其中校准数据涉及至少一个相对校准位置，其不同于至少一个相对测量位置。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 曝光 设置 方法 光刻 设备 计算机 程序 数据 载体 | ||
【主权项】：
1.一种在光刻曝光过程中用于确定衬底上目标区域的曝光设置的方法，所述方法包括：提供包括在沿相对于校准区域位置的第二和第三方向的多个校准位置处在第一方向上的校准区域的位置的校准数据；通过以下步骤提供制造数据：沿所述第二和第三方向确定目标区域的衬底上的位置；和在相对于沿所述第二和第三方向的曝光区域的位置的至少一个测量位置处测量沿所述第一方向的曝光区域的位置；所述方法进一步包括：在所述至少一个第一相对测量位置和所述多个相对校准位置之间进行对比，和利用所述对比来基于沿所述第一方向的所述曝光区域的所述测量位置和所述校准数据确定曝光设置，其中所述校准数据涉及至少一个不同于至少一个相对测量位置的相对校准位置。
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