[发明专利]坐标检测装置有效
| 申请号： | 200910134590.6 | 申请日： | 2009-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101566904A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 近藤幸一;古川正三;关泽光洋;中岛孝 | 申请（专利权）人： | 富士通电子零件有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/045 | 分类号： | G06F3/045 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭 放 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种坐标检测装置，其中，在绝缘材料制的基板上形成有电阻膜。公共电极对上述电阻膜施加电压，该公共电极沿多个电阻膜去除区域延伸，该多个电阻膜去除区域是通过去除了上述电阻膜的一部分而形成的。电压施加部对上述公共电极施加电压。从上述电压施加部经由上述公共电极对上述电阻膜施加电压，以在上述电阻膜中发生电位分布。通过检测上述电阻膜的接触位置处的电位，来检测上述电阻膜的接触位置的坐标位置。 | ||
| 搜索关键词： | 坐标 检测 装置 | ||
【主权项】：
1.一种坐标检测装置，包括：电阻膜，形成在绝缘材料制的基板上；公共电极，被配置为对上述电阻膜施加电压，该公共电极沿多个电阻膜去除区域延伸，该多个电阻膜去除区域是通过去除了上述电阻膜的一部分而形成的；以及电压施加部，被配置为对上述公共电极施加电压，其中，从上述电压施加部经由上述公共电极对上述电阻膜施加电压，以在上述电阻膜中产生电位分布；以及通过检测上述电阻膜的接触位置处的电位，来检测上述电阻膜被接触的位置的坐标位置。
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