[发明专利]形成硅光电池的多层电极结构的方法有效
申请号: | 200910130002.1 | 申请日: | 2009-03-23 |
公开(公告)号: | CN101546792A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | B·徐;K·A·里涛;D·K·福克 | 申请(专利权)人: | 帕洛阿尔托研究中心公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 谢 静;杨 勇 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了形成光电池电极结构的方法,其中光电池包括其上具有钝化层的半导体衬底,所述方法包括:提供多个穿过钝化层抵达半导体衬底的接触开口;将接触金属选择性地镀入该多个接触开口以沉积接触金属;将含金属材料沉积在所沉积的接触金属上方;以及烧制所沉积的接触金属和所沉积的含金属材料。含金属材料可以包括一种含有银或银合金连同玻璃料的糊料,其基本无铅至完全无铅。所述方法也可以采用光激活钝化层,或使用种子层来辅助镀料。 | ||
搜索关键词: | 形成 光电池 多层 电极 结构 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种形成光电池电极结构的方法,其中光电池包括其上具有钝化层的半导体衬底,该方法包括:提供多个穿过钝化层抵达半导体衬底的接触开口;将接触金属选择性地镀入该多个接触开口以沉积接触金属;在所沉积的接触金属上方沉积至少一个含金属层以形成金属栅格线;和烧制所沉积的接触金属和所沉积的至少一个含金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的