[发明专利]抛光垫修整器无效
申请号: | 200910128266.3 | 申请日: | 2009-03-24 |
公开(公告)号: | CN101844330A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 宋健民;陈盈同 | 申请(专利权)人: | 宋健民 |
主分类号: | B24B53/12 | 分类号: | B24B53/12;B24B29/00;B24B37/04;H01L21/304;H01L21/306 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种抛光垫修整器,包括一基座、至少一CVD钻石刀片及多个超硬材料颗粒;该基座支撑及固定结合该至少一CVD钻石刀片及多个超硬材料颗粒;该至少一CVD钻石刀片及多个超硬材料颗粒的顶端分别突出该基座的顶端;利用超硬材料颗粒可以切割抛光垫,利用CVD钻石刀片不仅可以切割抛光垫,也可以扫除堆积在抛光垫上的抛光碎屑,可提升CMP修整器的移除材料效率及节省CMP修整器的制造成本。 | ||
搜索关键词: | 抛光 修整 | ||
【主权项】:
一种抛光垫修整器,用以修整CMP抛光垫,包括:一基座;至少一CVD钻石刀片;其中,该基座支撑及固定结合该至少一CVD钻石刀片;该至少一CVD钻石刀片突出该基座一突出量。
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