[发明专利]X射线荧光分析装置有效

专利信息
申请号: 200910119502.5 申请日: 2009-03-12
公开(公告)号: CN101504380A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 郑维明;黄清良;宋游;吴继宗;刘桂娇 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及X射线荧光分析技术,它公开了一种X射线荧光分析装置。该装置包括X光激发系统、放置样品的样品盒、石墨晶体衍射光路、探测器多道系统、计算机数据采集与处理系统等组成,其中样品盒安装在手套箱内部,其余系统均在手套箱外部,并采用轻质材料进行窗口密封。该方案不仅满足了防护的要求,而且装置维修简单,电子学设备所受影响也较小。
搜索关键词: 射线 荧光 分析 装置
【主权项】:
1. 一种X射线荧光分析装置,包括X光激发系统(1)、放置样品(6)的样品盒(5)、石墨晶体衍射光路(8)、探测器多道系统(9)、计算机数据采集与处理系统(10)等组成,其特征在于:将样品盒(5)安装在手套箱(4)内部,其余系统均在手套箱(4)外部,并采用轻质材料进行窗口密封。
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