[发明专利]一种连续化薄膜真空沉积方法及装置有效
申请号: | 200910095388.7 | 申请日: | 2009-01-12 |
公开(公告)号: | CN101463471A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
发明(设计)人: | 夏申江;金炯;朱志强 | 申请(专利权)人: | 浙江嘉远格隆能源股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 | 代理人: | 赵红英 |
地址: | 310012浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种连续化薄膜真空沉积方法及装置,它包括以下步骤:通过在真空沉积室的进口设置至少一级进口真空预抽室、在真空沉积室的出口设置至少一级出口真空保护室,以保持真空沉积室内的真空度;各级进口真空预抽室、真空沉积室、各级出口真空保护室之间由狭缝连通,并由设置在狭缝处的阀门密封,基底通过狭缝进入各室,阀门在基底通过时开启,在基底通过后关闭;基底在进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时,至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的,以保持真空沉积室内的真空度不变。调整基底的传送速度使相邻二块基底之间的间距在到达沉积装置前缩小,并使基底在离开真空沉积室时,相邻两块基底之间的间距增大,从而实现薄膜沉积的连续化进行和原材料利用率的极大提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 薄膜 真空 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种连续化薄膜真空沉积方法,其特征在于它包括以下步骤:A)通过在真空沉积室的进口设置至少一级进口真空预抽室、在真空沉积室的出口设置至少一级出口真空保护室,使位于真空沉积室两边的进口真空预抽室、出口真空保护室的真空度与真空沉积室的真空度基本相同,以保持真空沉积室内的真空度;B)各级进口真空预抽室、真空沉积室、各级出口真空保护室之间由狭缝连通,并由设置在狭缝处的阀门密封,其中位于真空沉积室进口一侧的各阀门为进口阀门,位于真空沉积室出口一侧的各阀门为出口阀门,基底通过狭缝进入各室,阀门在基底通过时开启,在基底通过后关闭;C)基底以一定的间隔和一定的速度连续从外界大气环境通过进口真空预抽室传送进入真空沉积室进行薄膜沉积,从真空沉积室通过出口真空保护室传送进入外界大气环境;D)基底在进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时,至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的,以保持真空沉积室内的真空度不变。
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