[发明专利]一种用微束等离子喷涂制备羟基磷灰石涂层的方法无效
申请号: | 200910088401.6 | 申请日: | 2009-06-26 |
公开(公告)号: | CN101591759A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 李晓延;贺定勇;赵秋颖;周正;崔丽;蒋建敏;班书英;王智慧;赵力东 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C23C4/04 | 分类号: | C23C4/04;C23C4/12 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张 慧 |
地址: | 100124*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种用微束等离子喷涂制备羟基磷灰石涂层的方法,属于生物医用材料工程中的植入体加工制备领域。该方法采用微束等离子喷涂设备将烘干后的羟基磷灰石粉末喷涂到表面经过喷砂处理生物医用植入金属材料基体之上,从而获得结晶度可控,生物稳定性好的羟基磷灰石涂层。使用本方法制备涂层的过程简单,羟基磷灰石粉末沉积效率高。该方法可用于在不锈钢、钴基合金和钛及钛合金等惰性植入金属材料表面沉积羟基磷灰石涂层,使得生物惰性的金属基体的表面生物活化,制备齿根和人工关节等医用植入体器件。 | ||
搜索关键词: | 一种 用微束 等离子 喷涂 制备 羟基 磷灰石 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用微束等离子喷涂制备羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:采用微束等离子喷涂设备将烘干后的粒径为28-53μm的羟基磷灰石粉末喷涂到基体之上,喷涂工艺参数为:工作电流为35-60A;枪摆速度为150-3900mm/min,喷涂距离70-100mm;工作气为氦氩混合气,氦气和氩气的体积比为1∶1,工作气流量1.0-1.2L/min;保护气为氦氩混合气或氩气,保护气流量0.4-0.5L/min;送粉气为氦氩混合气或氩气,送粉气流量4-5L/min;送粉率0.05-0.50g/min。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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