[发明专利]超临界二氧化碳压缩反溶剂沉淀光聚合法无效
| 申请号： | 200910084912.0 | 申请日： | 2009-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN101555297A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 聂俊;孟准 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08F2/48 | 分类号： | C08F2/48;C08F2/14 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 萍 |
| 地址： | 100029北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于高分子材料领域，具体涉及超临界二氧化碳压缩反溶剂沉淀光聚合法，是环境友好的新型光固化方法。本发明将双官能度或多官能度光活性单体与适当光引发剂及合适的溶剂混合均匀，再向超临界二氧化碳气氛的反应器中同时分别喷射该均匀混合物及二氧化碳气体，光照聚合。通过此方法，可以得到高交联度高分子聚合物，并可实现对聚合物微观形貌的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 二氧化碳 压缩 溶剂 沉淀 聚合 | ||
【主权项】：
1.一种超临界二氧化碳压缩反溶剂沉淀光聚合法，其特征在于：制备分四步进行；第一步将所有原料混合成均匀液体；第二步向反应器中通入二氧化碳气体，通过控制反应器中的温度和压力，使反应器内达到超临界状态；第三步将原料混合成的均匀液体与二氧化碳气体同时分别以不同的进料速度通过喷嘴注射入反应器；第四步用紫外光源或可见光源照射反应器上的透光镜，使反应器内的原料发生聚合反应；原料组分及质量百分含量为：光活性单体 10％～99％光引发剂 0.1％～6％有机溶剂 1％～89.9％反应条件为：光强 10mW/cm2～300mW/cm2反应温度 35℃～100℃反应压力 7.5MPa～100MPa光活性单体、光引发剂、有机溶剂混合成的均匀液体的进料速度：0.1～50mL/min；二氧化碳气体的进料速度：1～100mL/min。
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