[发明专利]监测曝光机台焦平面变化的方法无效
| 申请号： | 200910082351.0 | 申请日： | 2009-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN101866111A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 覃柳莎 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种监测曝光机台焦平面变化的方法，关键在于，设置侧壁角SWA与焦距的对应关系并拟和出所述对应关系曲线，该方法还包括：在曝光机台曝光过程中，监测侧壁角，从所述拟和曲线中确定侧壁角所对应的焦距值，确定焦平面是否发生变化。采用该方法能够快速而准确地获得曝光机台焦平面的变化情况。 | ||
| 搜索关键词： | 监测 曝光 机台 平面 变化 方法 | ||
【主权项】：
一种监测曝光机台焦平面变化的方法，包括设置侧壁角SWA与焦距的对应关系并拟和出所述对应关系曲线，该方法还包括：在曝光机台曝光过程中，监测侧壁角，从所述拟和曲线中确定侧壁角所对应的焦距值，确定焦平面是否发生变化。
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