[发明专利]一种无边缘效应放射性TiNi合金支架的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910072674.1 申请日: 2009-08-13
公开(公告)号: CN101627934A 公开(公告)日: 2010-01-20
发明(设计)人: 高智勇;赵兴科;蔡伟;隋解和;吴冶 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: A61F2/90 分类号: A61F2/90;A61N5/00;A61L27/06
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 代理人: 金永焕
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种无边缘效应放射性TiNi合金支架的制备方法,它涉及一种放射性支架的制备方法。它解决了纯32P射线穿透力弱和支架周围剂量不均匀导致的支架边缘处再狭窄率高的问题。方法:一、制备铸锭;二、制备冷拔丝;三、将冷拔丝编成支架,然后真空热处理,而后进行化学抛光、再超声清洗后吹干;四、将吹干后的支架放入到等离子体基离子注入系统中进行慢中子辐照;五、将辐照后的支架进行先退火后冷却处理,即得放射性TiNi合金支架。本发明得到的放射性TiNi合金支架,既保留了合金优良的超弹性、良好的耐蚀性和生物医学性能,又可以获得以32P为主的混合射线,改善了支架周围射线剂量分布的均匀性,有助于抑制边缘效应。
搜索关键词: 一种 边缘 效应 放射性 tini 合金 支架 制备 方法
【主权项】:
1、一种无边缘效应放射性TiNi合金支架的制备方法,其特征在于制备无边缘效应放射性TiNi合金支架按以下步骤实现:一、按原子百分比取50.6%的Ni、0.032%的C、0.003%的H、0.045%的O、0.040%的Fe和余量的Ti进行混合,然后采用水冷铜坩埚真空感应熔炼炉熔炼,得铸锭;二、清理铸锭表面,然后在温度为750~850℃条件下均匀化处理8~24h,而后在温度为800℃条件下开坯锻造,再放入温度为650~800℃条件下进行热轧处理,然后再在温度为650~800℃条件下镟锻成直径为1.5cm的棒材,而后在温度为700℃、道次变形量为10%的条件下热拉成直径为2mm的热拔丝,再喷砂,而后再以道次变形量为10%的条件冷拔至直径为0.24mm冷拔丝,最后在一道冷拔变形量为50%的条件下冷拉成直径为0.12mm的冷拔丝;三、将冷拔丝编成直径为3.2mm、长度为15mm的支架,然后在温度为450℃的真空条件下处理15~30min,而后进行化学抛光处理,再放入丙酮中超声波清洗,吹干;四、将吹干后的支架放入到等离子体基离子注入系统中并将磷离子以注入电压50~70KV、注入量6×1017P/cm2注入到系统中,而后在慢中子通量为5.88×1017n/m2s、慢中子辐照剂量为3.38×1022n/m2的条件下辐照16h;五、将辐照后的支架放入到真空度1×10-3Pa的石英管中,在温度为773K条件下退火处理20min,然后在放入冰盐水中冷却,即得放射性TiNi合金支架。
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