[发明专利]含吡咯基团的化合物及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 200910063044.8 | 申请日： | 2009-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN101602703A | 公开（公告）日： | 2009-12-16 |
| 发明（设计）人： | 李振;李倩倩;时杰;卢兰兰;彭天右;秦金贵 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C07D207/337 | 分类号： | C07D207/337;C07D403/10;C09B57/00 |
| 代理公司： | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人： | 刘 荣;周宗贵 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了含有吡咯基团的化合物及其制备方法和用途。该化合物的结构通式为：（见右），其中，R为（见右）。本发明是从（见上）出发，通过Wittig反应、Vilsmeier反应和Knoevenagel缩合反应来构建共轭体系，再通过Suzuki反应在吡咯的N原子上引出不同的间隔基团三苯胺和咔唑，最终得到目标化合物。本发明的化合物具有良好的光电性能和光捕捉能力，其摩尔吸光系数值较大，可用作染料敏化剂，且制备方法的反应条件温和，产率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 吡咯 基团 化合物 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.含吡咯基团的化合物，其特征在于该化合物的结构通式为：![]()
其中，R为![]()
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