[发明专利]激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法无效
| 申请号： | 200910056934.6 | 申请日： | 2009-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101504374A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 李源;邹子英;刘一 | 申请（专利权）人： | 上海市计量测试技术研究院 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84 |
| 代理公司： | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈志良 |
| 地址： | 201203上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明为激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法。通过对具有多种材料表面的被测样品进行预先多次标定，在扫描过程中通过自动或手动设置FES信号线性拟合系数，对具有多种材料表面的被测样品进行焦平面位置修正。本发明在不改变原有测量系统硬件结构的基础上，克服激光聚焦方法在测量对象和分辨力上的缺陷，拓展了该方法的应用领域。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 聚焦 式测头 应用于 特殊 结构 测量 中的 标定 扫描 方法 | ||
【主权项】：
1、激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法，包括如下步骤：1)在具有两种和两种以上表面材料的器件和结构表面，使聚焦式测头在每个表面进行单独的预先标定，记录各表面聚焦信号参数；2)以标定后得到的聚焦信号参数作为扫描平台的反馈控制信号，初始化聚焦信号的突变阈值范围；并确认被测样品一直处于激光的焦平面上；3)对被测样品表面开始扫描，在扫描过程中判断聚焦信号是否超出突变阈值范围；若超出突变阈值范围，则判断发生突变的原因，手动或自动切换聚焦信号参数，修正测量激光的焦平面位置。
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