[发明专利]一种化学沉淀与物理研磨相结合制备无机纳米粉体的方法无效
| 申请号： | 200910050322.6 | 申请日： | 2009-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101549271A | 公开（公告）日： | 2009-10-07 |
| 发明（设计）人： | 施利毅;杭建忠;王小芬;王为军 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | B01J13/02 | 分类号： | B01J13/02 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所（普通合伙） | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学沉淀与物理研磨相结合制备无机纳米粉体的方法，属超细粉体材料技术领域。本发明的目的是提供一种高纯纳米粉体的制备方法。该方法首先采用化学沉淀控制一定工艺条件下合成粒径在0.2μm-0.5μm的微粒。然后采用新型研磨技术对微粒进行再加工处理，最后制得粒径达40nm左右的纳米粉体。本方法制备的纳米颗粒分散性好，粒径小，粒度分布均匀。该方法兼具化学合成法与物理研磨法的优点，成本低廉，工艺简单，适用于多种无机纳米粉体的制备，工业化放大容易实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉淀 物理 研磨 相结合 制备 无机 纳米 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学沉淀与物理研磨相结合制备无机纳米粉体的方法，其特征在于，先用化学沉淀制备得到粒径为0.2～0.5μm的微粒，将微粒加入到研磨机中，以水为介质，用分散剂研磨处理，最后经过滤、洗涤、干燥得到粒径小且粒度分布均匀的无机纳米粉体。
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