[发明专利]掩模台扫描倾斜的测量方法及装置

摘要

本发明提供一种掩模台扫描倾斜的测量方法及装置，所述方法包括：1.在掩模台上放置一测试掩模，其上具有多列对准标记；2.移动掩模台，使测试掩模上的一列对准标记位于曝光光源系统的视场中心；3.开启曝光光源，使多个对准标记成像于投影物镜下方；4.水平及垂向移动像传感器系统，对一列对准标记的空间像进行扫描，以获取对准标记空间像垂向位置相对于投影物镜像方焦面的高度差Z_f；5.将Z_f转化为对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差Z_i；6.重复执行步骤2至5，以获取对应于不同列的对准标记的Z_i，并根据掩模台的扫描倾斜偏差与Z_i之间的关系，建立多个相应的扫描倾斜偏差模型；7.根据多个模型计算出掩模台的扫描倾斜偏差。

主权项

1、一种掩模台扫描倾斜的测量方法，用于测量光刻机系统中掩模台的扫描倾斜偏差，其特征在于，所述方法包括下列步骤：S1、在掩模台上放置一测试掩模，所述测试掩模上具有多列对准标记；S2、移动掩模台，使所述测试掩模上的一列对准标记位于曝光光源系统的视场中心；S3、开启曝光光源，使多个对准标记成像于投影物镜下方；S4、水平及垂向移动像传感器系统，对所述一列对准标记的空间像进行扫描，以获取所述空间像垂向位置相对于投影物镜像方焦面的高度差；S5、将所述高度差转化为对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差；S6、重复执行步骤S2至步骤S5，以获取对应于不同列的对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差，并根据掩模台的扫描倾斜偏差与对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差之间的关系，建立多个相应的扫描倾斜偏差模型；S7、根据所述多个扫描倾斜偏差模型计算出所述掩模台的扫描倾斜偏差。