[发明专利]用于光刻设备的对准系统及应用其的光刻设备有效
| 申请号： | 200910045241.7 | 申请日： | 2009-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN101526750A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 戈亚萍;杜聚有;徐荣伟;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于光刻设备的对准系统，用来依据晶片上的对准标记进行对准。对准标记是三周期相位光栅型标记，包含三组不同周期的光栅：第一光栅、第三光栅和第二光栅。成像模块的频谱面上设置有光学偏折结构，用于将Y方向对准标记的Y方向第三光栅的正负一级衍射光束偏折到X方向，或者将X方向对准标记的X方向第三光栅的正负一级衍射光束偏折到Y方向。本发明提出的用于光刻设备的对准系统，利用光学偏折结构将Y(或X)方向的小周期衍射光束偏折到X(或Y)方向，从而可以实现两个方向的对准扫描，能量利用率得到提高，得到的对准信号没有出现明显的拐点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 对准 系统 应用 | ||
【主权项】：
1、一种用于光刻设备的对准系统，包括：光源模块，用于提供该对准系统的照明光束；照明模块，用于传输照明光束，垂直照明晶片上的对准标记；成像模块，采集对准标记的正负一级衍射光束并相干成像在参考标记位置；以及信号探测模块和处理模块通过探测和处理经过参考标记成像后的对准光强信号，得到对准标记的位置信息，其特征在于：所述对准标记是三周期相位光栅型标记，包含三组不同周期的光栅：第一光栅、第三光栅和第二光栅；以及所述成像模块的频谱面设置有光学偏折结构，该光学偏折结构将Y方向对准标记的Y方向第三光栅的正负一级衍射光束偏折到X方向，或者将X方向对准标记的X方向第三光栅的正负一级衍射光束偏折到Y方向。
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