[发明专利]一种去除冷压印残留胶层的方法无效
| 申请号： | 200910044949.0 | 申请日： | 2009-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN101770188A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 刘彦伯;钮晓鸣;宋志棠;闵国全;周伟民;张静;万永中;张挺;李小丽;张剑平;施利毅;刘波;封松林 | 申请（专利权）人： | 上海市纳米科技与产业发展促进中心;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200237上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种去除冷压印残留胶层的方法，属于纳米制造领域。其特征在于：在透光模板图形表面选择性覆盖不透光材料，将图案表面进行修饰后直接用作模板压印，能够使光敏压印胶复型结构选择性的固化，最后用化学溶剂将未固化区域的压印胶直接清洗去除，实现压印后清除压印残留胶层的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 压印 残留 方法 | ||
【主权项】：
本发明涉及一种去除冷压印残留胶层的方法，属于纳米制造领域。其特征在于：在透光模板图形表面选择性覆盖不透光材料，对图案表面进行修饰后直接用作模板压印，使光敏压印胶复型结构选择性的固化，最后用化学溶剂将未固化区域的压印胶直接清洗，达到去除压印残留胶层的目的。
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