[发明专利]基于去除函数预测模型的计算机控制抛光方法有效
| 申请号： | 200910044197.8 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN101644915A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;李圣怡;彭小强;宋辞;谢超 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G05B19/04 | 分类号： | G05B19/04;B24B29/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 周长清;陈路长 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于去除函数预测模型的计算机控制抛光方法，其步骤为：(1)通过已知材料B对未知材料A进行首次计算机控制抛光加工；(2)理论预测材料A的去除函数模型；(3)基于步骤(2)中的预测去除函数模型，在接下来的计算机控制抛光加工过程中引入去除函数模型效率系数辨识环节。本发明是一种操作简单、高效、适应范围广、抛光精度高的基于去除函数预测模型的计算机控制抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 去除 函数 预测 模型 计算机控制 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种基于去除函数预测模型的计算机控制抛光方法，其特征在于步骤为：(1)通过已知材料B对未知材料A进行首次计算机控制抛光加工；(2)理论预测材料A的去除函数模型；(3)基于步骤(2)中的预测去除函数模型，在接下来的计算机控制抛光加工过程中引入去除函数模型效率系数辨识环节。
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